物理・表面計測系

断面試料作製装置

ib09020
メーカー 日本電子株式会社
型番(形式) IB09020
設置場所 22号館401室
管理室 X線マイクロアナライザー室
公開範囲 学内外

アルゴンイオンビームを試料に照射し、試料原子が弾き出されるスパッタリング現象を利用して試料を削る方法です。従来の機械研磨では困難な材料の断面作製に適しています。

装置性能および仕様

イオン加速電圧 2~6kV
イオンビーム径 500um(半値幅)
ミリングスピード 100um/h以上(6kV)
使用ガス アルゴンガス

分析対象

状態 固体
物質 金属、半導体、鉱物、高分子、セラミックス
最大試料サイズ 11mm×10mm×2mmt

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学内利用方法および利用料金

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