物理・表面計測系

集束イオン/電子ビーム 複合ビーム加工観察装置

jib4500
メーカー 日本電子株式会社
型番(形式) JIB-4500
設置場所 セラ研B棟117
管理室 透過型電子顕微鏡室IV
公開範囲 学内外

1台でFIB加工からSEM観察まで可能な複合ビーム加工観察装置です

装置性能および仕様

FIB(集束イオンビーム)

イオン源 Ga 液体金属イオン源
加速電圧 1~30 kV
倍率 ×30 (視野探し)、×100~×300,000
像分解能 5nm (30kV時)
ビーム電流 0.5pA ~30nA(30kV時)

SEM(電子ビーム)

加速電圧 0.3~30 kV
倍率 ×5~×300,000
像分解能 2.5nm(30kV時)
ビーム電流 1pA ~1uA

試料ステージ

ゴニオメータステージ X:76mm、Y:76mm、Z:5~48mm T:-10~90°、R:360°

分析対象

状態 固体

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学内利用方法および利用料金

ポータル内の機器分析受付システムに記載の注意事項を確認の上、申請してください。 利用料金は、職員ポータル共有ドキュメント内にあります。 e.センター>03-09産学官金連携機構設備共用部門>01 料金表

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