新共用プロジェクト

レーザーアブレーション成膜装置

laser_ablation
メーカー パスカル株式会社 他
型番(形式) 特注仕様
設置場所 2号館601B室
管理室 RCS-III
公開範囲 学内のみ

薄膜やナノ構造を作製するための装置です。レーザーをターゲットに打ち付けて物質を蒸発させて基板まで飛ばし、堆積させる事で薄膜・ナノ構造が基板上に得られます。ターゲット材料に関しては要相談。研究室向け特注仕様。

装置性能および仕様

装置性能および仕様 YAGレーザー使用(波長:266, 355, 532 nm)
気相合成装置

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学内利用方法および利用料金

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