新共用プロジェクト 公開範囲が”学内のみ”となっている下記装置・機器の学外利用(受託試験)をご希望の方は、受託試験手続きからお問い合わせください。

真空蒸着装置

vacuum
メーカー 株式会社アルバック 他
型番(形式) 特注仕様
設置場所 2号館601B室
管理室 RCS-III
公開範囲 学内のみ

薄膜・ナノ構造作製装置です。真空中(~10-3 Pa)で材料を加熱して気化させ、基板上に堆積させることで薄膜・ナノ構造が得られます。材料として、金や銀などの低融点材料を用いることができます。

装置性能および仕様

装置性能および仕様 真空加熱蒸着システム
真空度:約10-3Pa

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学内利用方法および利用料金

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