物理・表面計測系

マグネトロンスパッタリング装置

vtr151m
メーカー アルバック
型番(形式) VTR-151M/SRF
設置場所 22号館164室
管理室 成膜室
公開範囲 学内のみ

電子材料、半導体デバイス等の基礎研究に用いる装置で、金属、絶縁体、半導体等色々な薄膜を成膜することができます。

装置性能および仕様

カソード 2インチ3元
基板推奨サイズ Φ2インチ
基板加熱 Max350度
基板電極間距離 50mm~90mm
RF電源 0~300W
ガスライン アルゴン、酸素、パージ用窒素

分析対象

分析対象 現在、ITO、TiO2、ZnOを共用ターゲットとして揃えています。共用ターゲット以外の材料は相談に応じて、利用者に購入していただき使用可能です。

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学内利用方法および利用料金

ポータル内の機器分析受付システムに記載の注意事項を確認の上、申請してください。 利用料金は、職員ポータル共有ドキュメント内にあります。 e.センター>03-09大型設備基盤センター>01 料金表