X線CT装置

メーカー 島津製作所
型番(形式) inspeXio SMX-225CT
設置場所 3号館126室
管理室 RCS-VIII
公開範囲 学内外

対象物に様々な方向からX線を照射して得られたデータをコンピュータで処理することにより、三次元画像を作成します。本装置により、金属や樹脂製品、あるいは生体硬組織の内部構造を、非破壊で三次元的に評価できます。

装置性能および仕様

X線源 密封型 定格出力135W
最大管電圧 225kV
最大管電流 1000μA
X線検出器 イメージインテンシファイア
CTデータ収集時間 10sec~30min

分析対象

搭載可能試料サイズ 最大 φ180mm×H250mm
最大 9kg

X線CT装置

メーカー 島津製作所
型番(形式) inspeXio SMX-100CT
設置場所 3号館126室
管理室 RCS-VIII
公開範囲 学内外

対象物に様々な方向からX線を照射して得られたデータをコンピュータで処理することにより、三次元画像を作成します。本装置により、金属や樹脂製品、あるいは生体硬組織の内部構造を、非破壊で三次元的に評価できます。

装置性能および仕様

X線源 密封型 定格出力20W
最大管電圧 100kV
最大管電流 200μA
X線検出器 イメージインテンシファイア
CTデータ収集時間 10sec~30min

分析対象

搭載可能試料サイズ 最大 φ180mm×H250mm
最大 4kg

カーボンコーター

カーボンコーター
メーカー メイワフォーシス
型番(形式) CADE/L
設置場所 22号館402室
管理室 X線マイクロアナライザー室
公開範囲 学内のみ

非導電性材にカーボンコートすることでチャージアップを防ぐことができます。
真空引きからコーティング終了まで約5分で行えます。
蒸着源は超高純度(99.995%)カーボンファイバーでSEM観察、EDS分析などの前処理に適しています。真空度や試料ステージの距離で膜厚のコントロールが行えます。

装置性能および仕様

試料ステージ寸法 φ80㎜
蒸着源 特殊処理高純度炭素ファイバー
膜厚 20nm~1nm(4Paで蒸着時)
蒸着源からの距離 40㎜~140㎜

オスミウム・プラズマコーター

オスミウムコーター
メーカー フィルジェン
型番(形式) OPC60A
設置場所 22号館409室
管理室 走査電子顕微鏡室III
公開範囲 学内のみ

「直流グロー放電による負グロー相領域内でのプラズマ製膜法」を用いた、主に走査電子顕微鏡試料用の導電性薄膜作製装置です。
試料に導電性を持たせるために通常用いられる金や白金や白金パラジウム合金などのコーティングでは、高倍率の観察では金属粒子が目立つようになりますが、上記の製膜法では非晶質のオスミウム薄膜が形成されるので、高倍率(10万倍以上)の観察でもオスミウム粒子が見えません。
また、回り込みが良いため、凹凸の大きい試料でもチャージアップしにくいという特長もあります。

装置性能および仕様

成膜速度 数nm/数秒
生成膜厚 3nm〜数100nm
最大試料サイズ 直径36mm 高さ14mm
※試料に尖った部分があると異常放電が起こることがあるので、角を落としてきてください。

コーティング例

PtPdコーティングでは金属粒子と思われる5nm前後の粒子が試料表面に見られますが、Osコーティングでは金属粒子が見られないため試料の微細な構造を観察できます

Osコートしたスギ花粉(300,000倍)

Osコーティングしたスギ花粉(300,000倍)

PtPdコートしたスギ花粉(300,000倍)

PtPdコーティングしたスギ花粉(300,000倍)

ガラス旋盤

 

メーカー 日善製作所
型番(形式) D-16-22
設置場所 22号館210室
管理室 ガラス工作室
公開範囲 学内

ガラスを用いた教育・研究用の実験装置・機器の製作・修理を行っています。石英管・パイレックス管の加工(加工例)、修理(修理例)

利用方法

加工依頼票に所用事項を記入し提出してください「依頼伝票」

参考文献

無響室

無響室
メーカー
型番(形式)
設置場所 22号館110室
管理室 無響室
公開範囲 学内外

電波暗室

電波暗室
メーカー
型番(形式)
設置場所 22号館105室
管理室 電波暗室
公開範囲 学内外

粉末・多結晶用X線回折装置

smartlabse
メーカー リガク
型番(形式) SmartLabSE
設置場所 22号館401号室
管理室 X線分析室
公開範囲 学内外

一般的な粉末X線回折装置。試料を水平保持のまま測定可能。

装置性能および仕様

X線発生装置 封入管式
最大定格出力 3kW
定格電圧 20~60kV
定格電流 2~60mA
ターゲット Cu
入射光学系 集中法
受光光学系 ソーラースリット、グラファイトモノクロメータ
検出器 1次元検出器 D/tex Ultra250
ゴニオメータ 試料水平保持方式
測定の種類 2θ-θ測定

分析対象

状態 多結晶、粉末
物質 金属、無機化合物、有機物、高分子

応力制御式レオメーター

メーカー Anton Paar AG
型番(形式) MCR-302
設置場所 22号館413室
管理室 物質ダイナミックス解析室
公開範囲 学内外

応力制御式レオメーターです.低粘度流体からスラリー,ポリマー溶融樹脂などの高粘度流体の粘度や弾性を測定できます.また,様々なオプションを備えており,磁気粘弾性の測定,顕微鏡による拡大観察+粘弾性の同時測定,偏光イメージング+粘弾性の同時測定,フィルム状溶融樹脂の伸張粘度計測,ねじり変形計測など,様々な測定が可能です.

装置性能および仕様

最小トルク 0.5nN・m(振動)
1.0nN・m(定常回転)
最大トルク 200 mN・m
偏向角 0.05 mrad
最小角速度 1e-9 rad/s
最大角速度 314 rad/s
最小角周波数 1e-7 rad/s
最大角周波数 628 rad/s
ノーマルフォース範囲 0.005N ~ 50N
測定温度 ペルチェ(水冷):-20 ~ 180℃
ペルチェ(空冷): +5 ~ 200℃
対流式オーブン:-150~450℃

分析対象

低粘性溶液,水溶性ポリマー,溶融樹脂,スラリー,ペースト,溶媒,磁性流体,粘着剤,接着剤,食品,化粧品,医薬品,塗料,分散系流体,液晶,界面活性剤,イオン液体,ゲル構造体,ソフトマターなど

分析対象不可

腐食性物質,毒物

時間分解赤外分光装置

メーカー Bruker
型番(形式) VERTEX80+HYPERION3000
設置場所 22号館 217室
管理室 時間分解赤外分光室
公開範囲 学内外

メーカー LOTIS TII
型番(形式) LS-2134UT-10, LT-2214U
設置場所 22号館 217室
管理室 時間分解赤外分光室
公開範囲 学内外

ナノ秒パルスレーザーや急速溶液交換装置などを利用して、サンプルの光反応や溶液反応などに伴う赤外吸収スペクトルの変化を時間分解計測する装置です。フィルム状の試料や液膜、全反射減衰光学系(ATR)、赤外顕微鏡による計測が可能です。

装置性能および仕様

観測領域(波数) 4000-8000 cm-1程度
測定温度範囲 10℃から70℃程度
赤外窓板サイズ Φ25mm(厚さ2mm程度)
励起光 ナノ秒パルスレーザー(Nd:YAG)532, 355 nmおよびOPOによる波長可変(450 nm~600 nm程度)

分析対象

状態 液体、固体
物質 タンパク質、高分子、錯体など
濃度 観測する赤外線の吸収が2 O.D.程度以下のもの